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dc.contributor.author呂侑儒
dc.date94學年度第一學期
dc.date.accessioned2009-06-03T03:19:58Z
dc.date.accessioned2020-05-22T08:32:11Z-
dc.date.available2009-06-03T03:19:58Z
dc.date.available2020-05-22T08:32:11Z-
dc.date.issued2006-04-18T17:23:37Z
dc.date.submitted2006-04-18
dc.identifier.otherM9391284
dc.identifier.urihttp://dspace.lib.fcu.edu.tw/handle/2377/536-
dc.description.abstract在光電產業快速發展之際,製鍍高品質光學薄膜可以有效提升光學系統性能,而薄膜表面的檢測為製鍍高品質光學薄膜之重要參考依據。因此,本研究提出一套自行研發之光學薄膜表面量測系統,此系統以Twyman-Green干涉儀為其架構並結合自行設計的軟體程式,利用小波轉換將擷取之影像分高、低頻呈現,並搭配灰階共生矩陣(GLCM)與熵值(entropy)運算,以快速測定薄膜表面平坦度之良窳。此外,利用自行設計的軟體分析處理干涉圖,進而可量測薄膜厚度。通常厚度之量測須運用干涉儀及精密判讀干涉條紋的位移量來達成,否則將造成量測上的誤差,因此,為了提升干涉式膜厚量測之精確度,我們利用Wiener濾波器有效地濾除雜訊,並且經由干涉圖形之細線化,可使程式精確地自動判別條紋之間距與條紋位移量,達成量測薄膜厚度之目的。
dc.format.extent31p.
dc.format.extent1786583 bytes
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isozh
dc.rightsopenbrowse
dc.subject光學薄膜
dc.subject表面檢測
dc.subject小波轉換
dc.subject細線化
dc.subject灰階共生矩陣
dc.title光學薄膜表面特性量測方法之研究
dc.typegradreport
dc.description.course物理光學
dc.contributor.department產業研發碩士專班, 資訊電機學院
dc.description.instructor田春林
dc.description.programme資訊電機碩士專班電控組
分類:資電094學年度

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